三星與Synopsys合作實(shí)現(xiàn)首次14納米FinFET成功流片
雙方圍繞Synopsys IP、設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)以及提取和簽核工具等領(lǐng)域進(jìn)行合作 加利福尼亞州山景城,2013年1月—— 亮點(diǎn) ? 該里程碑有助于加速對(duì)FinFET技術(shù)的采用,以實(shí)現(xiàn)更快和更高能效的系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC) ? 該合作為3D器件建模和物理設(shè)計(jì)規(guī)則支持奠定了基礎(chǔ) ? 測(cè)試芯片驗(yàn)證了FinFET工藝和Synopsys? DesignWare?嵌入式存儲(chǔ)器的成功采用 為芯片和電子系統(tǒng)加速創(chuàng)新提供軟件…